传统 X 射线成像技术往往难以区分吸收特性相近的材料，这在一定程度上限制了其所能提供的信息深度。而相衬成像（PC）与暗场成像（DF）作为创新性的新型 X 射线成像模式，能够突破这些局限，为样品表征开辟新的研究视角。
相衬成像通过检测X射线在样品中的细微折射现象，能够显著增强衰减成像中几乎不可见的界面与边界。
暗场成像能够捕捉到超小角散射信号，可提供纳米尺度异质结构与取向效应的全场分布图。
图1：基于散斑的X射线成像装置示意图，展示了参考图像与样品图像。
结合这两种成像模式，研究人员能够发现样品中隐藏的结构特征，区分原本难以分辨的材料，并将宏观可视化信息与纳米尺度结构细节相关联。
图2：尼龙丝与碳纤维束的衰减成像图(a)、相衬成像图(b)、暗场成像图(c)及定向暗场成像图(d)。衰减成像无法区分材料差异，而相衬与暗场成像则清晰呈现出各材料在成分、纳米结构及取向方面的差异。
Xenocs为Xeuss仪器开发的DF-PCI，通过将成像技术与SAXS进行集成，进一步扩展了这些成像能力。这一整合能把全场对比度和定量的纳米结构信息对应起来，为跨尺度的材料研究提供了全面深入的解读。
主要学习内容:
- 相衬成像与暗场成像相较于传统衰减成像能揭示哪些额外信息。
- 这些成像模式在区分和分析复杂材料方面具有哪些优势。
- 暗场成像如何指导SAXS测量，并提升其数据分析的准确性与深度。
- 通过案例研究说明SAXS与先进成像技术结合所带来的额外价值。
主讲人:
Clara Magnin持有斯特罗布实验室（INSERM）与Xenocs公司联合培养的X射线成像博士学位。在完成基础物理学的学术训练及医学物理学的硕士深造后，其博士研究专注于新型X射线成像方法的开发。她的课题致力于将同步辐射装置研发的创新X射线成像技术转化至实验室光源系统中，并针对低相干性系统开发了相衬与暗场成像方法。她博士论文的主要研究方向之一，是深入理解暗场成像中测得的散射信号，并探索该成像模式与小角X射线散射（SAXS）之间的关联。
组织者
Ana Tutueanu, PhD
Product Marketing and Scientific Communication Specialist
Email: ana.tutueanu@xenocs.com
