Q-Xtend

Q-Xtend 是Xeuss 3.0的专业校准模块,它可以用于分析具有较大尺寸结构参数的样品(一般来说尺寸范围通常在100纳米到1微米或更大)。

Q-Xtend 可以与Xeuss 3.0标准的SAXS/WAXS和Bonse-Hart USAXS测量模式进行结合,以便对软物质样品进行多尺度分析。

拥有 Q-Xtend 您可以:

  • 分析比常规高分辨率SAXS测试范围更大的粒子结构
  • 更多地获得接近投射光束的信息,从而通过SAXS的1D数据得到更多粒子形态和相互作用的信息。
  • 更快地获取微米级结构的详细信息。不论是单独进行SAXS测量,还是结合Bonse-Hart USAXS和SAXS测量,又或者用于样品筛选,Q-Xtend都能够以更高效的方式提供准确的结果。
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大尺寸粒子的测量

Q-Xtend 可以测量高达1.5微米的颗粒大小,具体取决于Xeuss 3.0仪器型号。

Q-Xtend利用非常精细的光斑分辨率和较长的样品到探测器距离(SDD),以检测比标准高分辨率SAXS测量更大尺寸的结构参数。

根据不同样品的特性,Q-Xtend 可以更准确地对大颗粒样品进行数据建模,包括检测结构因子和更好地表征样品的单分散性。它可以单独用于分析大型微米级结构,也可以与Bonse-Hart USAXS技术结合使用。

Bonse-Hart USAXS、Q-Xtend、SAXS/WAXS技术的结合,此测试配置专利为(EP 4 095 522)。

利用SAXS散射数据来获取更多有用的信息。

Q-Xtend 技术可以在低散射角度下采集更大范围的散射数据,这对于测量大颗粒或研究样品聚集现象非常有帮助。

Q-Xtend技术可以在接近透射光斑处采集更多的散射数据,根据样品的类型,可以更好地了解样品形态等信息,以验证所使用的散射模型是否正确。此外,还可以达到中等大的颗粒的Guinier区域,得到相关的旋转半径。

图1:在Xeuss 3.0上使用两种准直模式测量悬浮SiO2 纳米颗粒的1D散射数据的Guinier图。

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